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突破技術(shù)限制!低溫焊助力HBM內(nèi)存產(chǎn)能提升

導(dǎo)讀 近日,隨著人工智能市場的爆發(fā),各類關(guān)鍵技術(shù)的提升成為行業(yè)的焦點(diǎn)。在這一背景下,除了CPU、GPU算力的提升,HBM內(nèi)存的需求也迅速攀升。然

近日,隨著人工智能市場的爆發(fā),各類關(guān)鍵技術(shù)的提升成為行業(yè)的焦點(diǎn)。在這一背景下,除了CPU、GPU算力的提升,HBM內(nèi)存的需求也迅速攀升。然而,HBM內(nèi)存的生產(chǎn)一直受到產(chǎn)能限制、成本高以及焊接工藝復(fù)雜等問題的制約。為了克服這些挑戰(zhàn),MK Electronics公司推出了一項(xiàng)創(chuàng)新的低溫焊技術(shù),為HBM內(nèi)存的生產(chǎn)提供了新的可能性。

HBM(High Bandwidth Memory)內(nèi)存作為高性能計(jì)算和人工智能應(yīng)用中的重要組成部分,其性能和效率的提升對于整個(gè)行業(yè)具有重要意義。然而,由于HBM內(nèi)存采用了TSV(Through Silicon Via)硅通孔技術(shù),傳統(tǒng)的高溫焊接技術(shù)可能會引起芯片變形等問題。此前主流的高溫焊接技術(shù)采用SAC(Sn-Ag-Cu)錫、銀、銅材料,熔點(diǎn)超過250℃,不太適用于HBM內(nèi)存的特殊要求。

為了解決這一難題,MK Electronics公司研發(fā)出了專門適用于HBM內(nèi)存的低溫焊技術(shù)。這種新型焊接技術(shù)使用了由鉍(Bi)、錫(Sn)和銀(Ag)制成的焊球,其熔點(diǎn)低于150℃,比傳統(tǒng)高溫焊接技術(shù)降低了100多度。通過這種低溫焊接技術(shù),HBM內(nèi)存的生產(chǎn)過程不僅得以提高生產(chǎn)效率,還能夠降低因高溫引起的產(chǎn)品變形和缺陷,從而提高了產(chǎn)品的良率和質(zhì)量。

這項(xiàng)低溫焊技術(shù)的突破不僅為HBM內(nèi)存生產(chǎn)帶來了新的機(jī)遇,也為整個(gè)行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力。在三星、SK海力士等公司積極擴(kuò)大HBM內(nèi)存的生產(chǎn)規(guī)模的背景下,這項(xiàng)創(chuàng)新的焊接技術(shù)預(yù)計(jì)很快會在業(yè)界得到廣泛應(yīng)用。通過降低生產(chǎn)成本、提高產(chǎn)能,以及保障產(chǎn)品質(zhì)量,這項(xiàng)低溫焊技術(shù)將進(jìn)一步推動HBM內(nèi)存在高性能計(jì)算和人工智能領(lǐng)域的應(yīng)用和發(fā)展,為技術(shù)進(jìn)步和產(chǎn)業(yè)升級貢獻(xiàn)一份力量。

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